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LSCE-800接触式曝光机
LSCE-800接触式曝光机指掩膜板直接与基板的光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率准确度高，设备简单，线宽可达800nm；可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻；适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。可广泛应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。
- 用途：接触式曝光指掩膜板直接与基板的光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率准确度高，设备简单；
1.半导体制造；
2.光电电子、平板；
3.射频微波，衍射光学；
4.微机电系统；
5.凹凸或覆晶设备等。 - 主要规格：线宽可达800nm；可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻；
- 适用晶片尺寸：样品尺寸不能大于6英寸。
- 产品特点：
1.分辨率准确；
2.更广范围的紫外光波长选择；
3.支持恒定光强或恒定功率模式；
4.广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。
- 仪器详细参数：
- 尺寸：170 cm*130 cm*180 cm
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